Sasaran aloi al-ti

Sasaran aloi al-ti sering dibuat oleh kaedah pembuatan peleburan vakum. Ia mempunyai satu siri sifat titanium dan zirkonium yang sangat baik, seperti kekerasan yang tinggi, rintangan suhu tinggi, kekuatan mekanikal yang tinggi, biophilicity yang baik, rintangan kakisan yang sangat baik, rintangan kesan arka yang kuat, dan pengisaran, tahan lama, dan lain -lain.

Hantar pertanyaan

Sasaran aloi al-ti

Sasaran sputtering merujuk kepada bahan mentah yang digunakan dalam proses pemendapan sputtering. Ia merujuk kepada proses di mana atom dikeluarkan dari sasaran pepejal disebabkan oleh pengeboman zarah tenaga tinggi sasaran. Fungsi utamanya adalah untuk mendepositkan filem nipis pada objek.

Sasaran aloi al-ti boleh digunakan secara meluas dalam teknologi salutan vakum menggunakan PVD dan CVD sebagai proses utama. Ia boleh melapisi produk elektronik, peranti elektronik, peranti paparan yang dilindungi dan peranti litar bersepadu untuk meningkatkan kualiti tontonan dan hayat perkhidmatan. Ia juga boleh digunakan untuk melapisi alat pemprosesan, acuan dan kaca untuk memenuhi keperluan industri pembuatan global untuk alat berprestasi tinggi dan penjimatan tenaga dan kaca mesra alam.

Spesifikiton aloi aloi aloi

Bahan	Ti -75 al, ti -70 al, ti -67 al, ti -60 al, ti -50 al, ti -30 al, ti -20 al
Kesucian	Lebih besar daripada atau sama dengan 99.7%
Diameter	Disesuaikan
Ketebalan	Disesuaikan
Ketumpatan	3. 1-4. 3g\/cm3
Permukaan	Digilap, cerah, pembersihan kimia, oksida hitam, dan lain -lain.
Bentuk	Bulat
Menyampaikan masa	25 hari
Standard	ASTM