Penerangan Produk
Sasaran Sputtering Sasaran Ti33Al67
Kami pakar dalam menghasilkan sasaran Sputtering berkualiti tinggi Ti33Al67 sasaran sputtering sasaran, sasaran seramik, sasaran logam.
Produk digunakan untuk pelbagai bidang salutan vakum dengan pelbagai kaedah (magnetron sputtering, penyaduran vakum, dll.): Penyelidikan saintifik, aeroangkasa, automotif, mikroelektronik, industri litar bersepadu, sumber cahaya, optik, hiasan, industri paparan panel rata, maklumat industri penyimpanan, penyimpanan data dan sebagainya.
Sasaran sputtering aloi aluminium titanium boleh dibuat dengan dua cara, HIP dan lebur. Sasaran oleh HIP adalah kepadatan yang lebih tinggi. Sasaran dengan mencairkan akan ketulenan yang lebih tinggi. Semuanya berdasarkan permohonan anda.
Ketulenan: Al-Ti 33/67 pada% Al/Ti 50/50 pada%, 99.95%, 99.5%
Bentuk: Cakera, Plat, Langkah (Dia 300mm, Tebal 1mm) Segi Empat, Lembaran, Langkah (Panjang 1000mm, Lebar 300mm, Tebal 1mm) Tiub(Diameter< 300mm, Thickness >2mm)
Aplikasi: Utama digunakan dalam salutan alatan, Injap Tidak Kakisan/Loji Kimia, Industri Marin.
Penerangan Sasaran Sputtering Titanium Aluminium
|
Kesucian |
Al-Ti (35/67at%), Al/Ti (50:50 at%), AlTi 97/3wt%, AlTi 95/5wt%, AlTi 90/10wt% |
|
bentuk |
Cakera, Plat, Langkah (Dia Kurang daripada atau sama dengan 300mm, Ketebalan Lebih Besar daripada atau sama dengan 1mm) (Panjang Kurang daripada atau sama dengan 1000mm, Lebar Kurang daripada atau sama dengan 300mm, Ketebalan Lebih Besar daripada atau sama dengan 1mm) |
|
Pensijilan |
ISO 9001:2008 |
|
Spesifikasi |
Disesuaikan sebagai permintaan |
|
Proses |
Dipalsukan, Bergolek, Mengisar |
|
Permohonan |
1. Penyaduran elektrik; 2. Kejuruteraan kimia & teknologi Petrokimia; 3. Perubatan |
|
Ketumpatan |
4.51g/CM³ |
Cool tags: sasaran ti33al67, pembekal sasaran ti33al67 China, kilang
