Sasaran Sputtering Seramik

• Sasaran Sputtering ZrO2 4N Dengan Plat Belakang Cu

  Sasaran sputtering zirkonium dioksida kami dengan plat sandaran dibuat menggunakan-bahan zirkonium dioksida ketulenan tinggi, diikat dengan selamat pada plat sandaran logam; reka bentuk ini...

  Lebih
• Sasaran Sputtering ZrC Dengan Plat Belakang Cu

  Sasaran sputtering Zirkonium Carbide (ZrC) kami dengan plat sandaran tembaga menampilkan ikatan yang teguh antara-bahan sasaran ZrC ketulenan tinggi dan sandaran tembaga. Reka bentuk ini...

  Lebih
• Ta 5at% Doped ZrC Sputtering Target

  Pengdopan Zirkonium Karbida dengan nisbah 5 peratus atom Tantalum dengan ketara meningkatkan{1}}rintangan suhu tinggi, rintangan kejutan haba dan rintangan kakisan bahan sasaran. Mempunyai...

  Lebih
• Sasaran Sputtering IGZO 4N

  Sasaran sputtering IGZO 4N kami memberikan prestasi sputtering yang lebih stabil dan cekap. Dikhususkan untuk-aplikasi paparan dan semikonduktor tinggi, ia memudahkan merealisasikan mobiliti...

  Lebih
• Sasaran 4N HfO2 Dengan Plat Belakang Cu

  Sasaran Sputtering 4N HfO₂ dengan Sandaran Tembaga menggunakan bahan hafnium oksida ketulenan 99.99%. Disepadukan dengan sandaran tembaga, ia menawarkan kekonduksian terma yang sangat baik dan...

  Lebih
• 4N HfO2 Didop Dengan Sasaran Ti 2%.

  Sasaran sputtering HfO₂ 2% Ti-didop dibuat menggunakan substrat hafnium oksida-ketulenan tinggi, didop dengan tepat dengan 2% titanium. Dicirikan oleh keseragaman komposisi dan ketumpatan tinggi,...

  Lebih
• Sasaran Sputtering 4N HfO2

  4N High-Ketulenan Hafnium Dioxide Sputtering Sasaran (99.99% Ketulenan)—sesuai untuk aplikasi dalam salutan optik, semikonduktor dan elektronik ketepatan. Mempunyai ketumpatan tinggi, komposisi...

  Lebih
• Sasaran Sputtering B4C

  Menggunakan-bahan mentah boron karbida ketulenan tinggi, produk ini menampilkan kekerasan yang luar biasa dan kestabilan terma yang teguh, menjadikannya sesuai untuk aplikasi dalam pembuatan...

  Lebih
• Zarah HfC Tersuai

  Perihalan Zarah HfC Tersuai Zarah HfC biasanya disintesis dengan bertindak balas hafnium dioksida (HfO₂) dengan karbon pada suhu tinggi (1900–2300 darjah ) dalam suasana lengai atau mengurangkan....

  Lebih
• Sasaran Sputtering Tin Oksida (SnO2).

  Sasaran oksida timah (SnO2) ialah bahan bukan logam bukan organik yang penting. Oleh kerana sifat fizikal dan kimianya yang unik, ia memainkan peranan penting dalam banyak bidang berteknologi...

  Lebih
• Tantalum Oksida (Ta2O5) Sasaran Sputtering

  Tantalum Oxide Sputtering Target boleh digunakan dalam semikonduktor, pemendapan wap kimia (CVD), paparan pemendapan wap fizikal (PVD) dan aplikasi optik. Kami adalah pembekal Tantalum Oxide...

  Lebih
• Titanium Oksida (TiO2) Sasaran Sputtering

  Titanium dioksida (TiO2) ialah pigmen putih yang paling banyak digunakan, contohnya dalam cat. Ia mempunyai kecerahan tinggi dan indeks biasan yang sangat tinggi (2.609 untuk rutil).

  Lebih