Aluminium Titanium Alloy Sputtering Sasaran

Sasaran aloi titanium aluminium biasanya dihasilkan oleh proses tekanan isostatik panas, yang mempunyai saiz bijian yang lebih kecil dan struktur dalaman mikroskopik yang lebih seragam, yang dapat membantu pelanggan mendapatkan salutan filem nipis yang tinggi dan kadar hakisan yang tetap.

Hantar pertanyaan

Sasaran aloi titanium aluminium yang disediakan oleh syarikat kami mempunyai kelebihan berkualiti tinggi, kesucian tinggi, struktur seragam, hayat perkhidmatan yang panjang, rintangan kakisan yang baik, kekonduksian terma yang tinggi dan harga yang kompetitif.

Sasaran aloi aluminium aluminium berkualiti tinggi digunakan secara meluas dalam salutan alat perkakasan, salutan hiasan, salutan paparan rata, pemprosesan PVD dan CVD, komponen semikonduktor, dan pelbagai mesin sputtering magnetron dan mesin penyaduran ion.

Spesifikasi sasaran aloi titanium aluminium

Gred	Alti 25\/75, Alti 30\/70, Alti 40\/60, dan sebagainya.
Teknik	Menekan isostatik panas, sintering, penempaan, penyepuhlindapan
Kesucian	99.5-99.9%
Jenis	Planar Sputtering Sasaran, Sasaran Sputtering Rotary, ACR Cathode.
Ketebalan	Disesuaikan
Panjang	Disesuaikan
Diameter	Disesuaikan
Ketumpatan	3.4g\/cm3
Bentuk	Cakera, plat, lajur, langkah, segi empat tepat, tiub
Permukaan	Digilap, pembersihan alkali, pengisaran, oksida hitam, dll.