Bahan Salutan PVD
-
![Sasaran Sputtering ZrO2 4N Dengan Plat Belakang Cu]()
Sasaran Sputtering ZrO2 4N Dengan Plat Belakang CuSasaran sputtering zirkonium dioksida kami dengan plat sandaran dibuat menggunakan-bahan zirkonium dioksida ketulenan tinggi, diikat dengan selamat pada plat sandaran logam; reka bentuk ini...Lebih -
![Sasaran Sputtering ZrC Dengan Plat Belakang Cu]()
Sasaran Sputtering ZrC Dengan Plat Belakang CuSasaran sputtering Zirkonium Carbide (ZrC) kami dengan plat sandaran tembaga menampilkan ikatan yang teguh antara-bahan sasaran ZrC ketulenan tinggi dan sandaran tembaga. Reka bentuk ini...Lebih -
![Ta 5at% Doped ZrC Sputtering Target]()
Ta 5at% Doped ZrC Sputtering TargetPengdopan Zirkonium Karbida dengan nisbah 5 peratus atom Tantalum dengan ketara meningkatkan{1}}rintangan suhu tinggi, rintangan kejutan haba dan rintangan kakisan bahan sasaran. Mempunyai...Lebih -
![Sasaran Sputtering IGZO 4N]()
Sasaran Sputtering IGZO 4NSasaran sputtering IGZO 4N kami memberikan prestasi sputtering yang lebih stabil dan cekap. Dikhususkan untuk-aplikasi paparan dan semikonduktor tinggi, ia memudahkan merealisasikan mobiliti...Lebih -
![Sasaran 4N HfO2 Dengan Plat Belakang Cu]()
Sasaran 4N HfO2 Dengan Plat Belakang CuSasaran Sputtering 4N HfO₂ dengan Sandaran Tembaga menggunakan bahan hafnium oksida ketulenan 99.99%. Disepadukan dengan sandaran tembaga, ia menawarkan kekonduksian terma yang sangat baik dan...Lebih -
![4N HfO2 Didop Dengan Sasaran Ti 2%.]()
4N HfO2 Didop Dengan Sasaran Ti 2%.Sasaran sputtering HfO₂ 2% Ti-didop dibuat menggunakan substrat hafnium oksida-ketulenan tinggi, didop dengan tepat dengan 2% titanium. Dicirikan oleh keseragaman komposisi dan ketumpatan tinggi,...Lebih -
![Sasaran Sputtering 4N HfO2]()
Sasaran Sputtering 4N HfO24N High-Ketulenan Hafnium Dioxide Sputtering Sasaran (99.99% Ketulenan)—sesuai untuk aplikasi dalam salutan optik, semikonduktor dan elektronik ketepatan. Mempunyai ketumpatan tinggi, komposisi...Lebih -
![Sasaran Sputtering Karbon 4N yang boleh disesuaikan]()
Sasaran Sputtering Karbon 4N yang boleh disesuaikanSasaran pemercikan karbon-tinggi ketulenan 4N kami direka daripada bahan karbon tulen 99.99%, menampilkan tahap kekotoran yang rendah dan menjadikannya sesuai untuk aplikasi dalam semikonduktor,...Lebih -
![Sasaran Sputtering B4C]()
Sasaran Sputtering B4CMenggunakan-bahan mentah boron karbida ketulenan tinggi, produk ini menampilkan kekerasan yang luar biasa dan kestabilan terma yang teguh, menjadikannya sesuai untuk aplikasi dalam pembuatan...Lebih -
![Sasaran Sputtering Boron Tersuai]()
Sasaran Sputtering Boron TersuaiKami menyediakan-ketulenan tinggi, sasaran boron padat yang sangat sesuai untuk proses semikonduktor dan salutan. Kami menyokong fabrikasi tersuai berdasarkan lukisan teknikal, mengawal tahap...Lebih -
![Sasaran Tungsten Pusingan 3N5 yang disesuaikan]()
Sasaran Tungsten Pusingan 3N5 yang disesuaikanKami menawarkan sasaran tungsten bulat{0}}tersuai dengan ketulenan 3N5 (99.95%). Dihasilkan menggunakan metalurgi serbuk, ia mempunyai struktur mikro yang seragam, ketumpatan tinggi, dan bebas...Lebih -
![Sasaran Sputtering Hf Ketulenan Tinggi Tersuai]()
Sasaran Sputtering Hf Ketulenan Tinggi TersuaiKami menawarkan sasaran hafnium sputtering-tersuai tinggi{1}}tersuai dengan ketulenan melebihi 99.9%, menampilkan ketumpatan seragam dan struktur mikro yang halus. Direka khusus untuk cip...Lebih
Kami adalah pembekal bahan salutan pvd profesional di China, khusus dalam menyediakan perkhidmatan tersuai berkualiti tinggi. Kami sangat mengalu-alukan anda untuk membeli bahan salutan pvd diskaun dalam stok di sini dan dapatkan sampel percuma dari kilang kami. Untuk rundingan harga, hubungi kami.