Sasaran Sputtering Seramik

• Sasaran Sputtering Silikon Monoksida (SiO).

  Silikon monoksida ialah sebatian tak organik dengan formula kimia SiO. Ia adalah serbuk amorfus berwarna coklat hitam hingga loes pada suhu dan tekanan bilik.

  Lebih
• Sasaran Sputtering Aluminium Oksida (Al2O3).

  Bahan sasaran aluminium oksida, bahan seramik berketulenan tinggi, berketumpatan tinggi ini, bukan sahaja mempunyai kestabilan yang sangat baik, tetapi juga boleh menahan persekitaran terma yang...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Aluminium Nitride (AlN).

  Sasaran sputtering aluminium nitrida juga boleh dipanggil nitrida aluminium ketulenan tinggi, bahan pemendapan filem nipis, sasaran industri semikonduktor, sasaran sputter AlN, bahan sputtering...

  Lebih
• Boron (B) Sasaran Sputtering

  Sasaran sputtering boron mempunyai sifat yang sama seperti boron. Boron adalah unsur kimia yang berasal dari bahasa Arab 'buraq', yang merupakan nama untuk boraks. "B" ialah simbol kimia kanonik...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Aluminium Zinc Oxide (AZO).

  Sasaran AZO, sasaran aluminium zink oksida nama penuh, ialah bahan semikonduktor doped khas. Secara khusus, ia adalah bahan komposit yang terdiri daripada zink oksida (ZnO) dan aluminium (Al),...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Barium Titanate (BaTiO3).

  Barium titanate ialah pepejal kristal yang digunakan dalam aplikasi optoelektronik dan sebagai seramik dielektrik dalam kapasitor dengan nilai pemalar dielektrik setinggi 7,000. Polycrystalline...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Boron Nitride (BN).

  Boron nitrida (BN) ialah kristal yang terdiri daripada atom nitrogen dan atom boron. Ia biasanya hitam, coklat atau merah gelap. Ia mempunyai struktur sphalerite, kekonduksian terma yang baik, dan...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Boron Carbide (B4C).

  Boron Carbide: Ia ditemui pada abad ke-19 sebagai hasil sampingan penyelidikan borida logam dan tidak dikaji secara saintifik sehingga tahun 1830-an. Ia adalah bahan kelima paling sukar diketahui...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Cerium Oxide (CeO2).

  Cerium oksida ialah bahan bukan organik dengan formula kimia CeO2, serbuk kuning muda atau kuning-coklat. Ketumpatan 7.13g/cm3, takat lebur 2397 darjah, tidak larut dalam air dan alkali, sedikit...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Hafnium Oksida (HfO2).

  Zirkonia (ZrO2), juga dikenali sebagai zirkonium dioksida, adalah bahan seramik berprestasi tinggi yang sangat penting. Oleh kerana takat leburnya yang tinggi, kekuatan lenturan yang tinggi dan...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Indium Oxide (In2O3).

  Indium oksida ialah oksida dengan formula molekul In2O3. Produk tulen ialah serbuk amorf berwarna putih atau kuning muda, yang bertukar menjadi coklat kemerahan apabila dipanaskan. Indium oksida...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Indium Tin Oxide (ITO).

  Bahan sasaran ITO, Indium Tin Oxide, adalah bahan pengalir telus yang penting. Dalam bidang penyediaan filem nipis, sasaran ITO digunakan secara meluas sebagai bahan mentah asas dalam peranti...

  Lebih