Sasaran Sputtering Seramik

• Sasaran Sputtering Zink Oksida (ZnO).

  Sasaran Percikan Zink Oksida (ZnO) digunakan untuk Pemendapan Wap Fizikal Pemendapan Magnetron. Pelbagai diameter, ketebalan dan ketulenan tersedia untuk disesuaikan dengan semua pengeluar sumber...

  Lebih
• Magnesium Fluorida（MgF2）Sasaran Sputtering

  Magnesium fluorida ialah garam kristal putih dan lutsinar pada julat panjang gelombang yang luas, dengan kegunaan komersil dalam optik yang juga digunakan dalam teleskop angkasa. Ia berlaku secara...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Litium Kobalt Oksida (LiCoO2).

  Litium kobalt oksida ialah struktur berlapis, menyediakan terowong dua dimensi untuk penghijrahan Litium-ion. Sasaran sputtering LiCoO2 ialah bahan yang bagus untuk membuat bateri kerana prestasi...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Molibdenum Oksida (MoO3).

  Sasaran Sputtering Molibdenum Oksida boleh digunakan dalam semikonduktor, pemendapan wap kimia (CVD), paparan pemendapan wap fizikal (PVD) dan aplikasi optik. Kami adalah pembekal Sasaran...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Magnesium Oksida (MgO).

  Magnesium oksida dalam sasaran sputtering terutamanya dicerminkan dalam pembentukan filem berkelajuan tinggi, aplikasi dalam industri mikroelektronik dan fotovoltaik, proses penyediaan khusus dan...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Molibdenum Disulfida (MoS2).

  MoSi2 ialah struktur tetragonal. Ia adalah fasa pertengahan dengan kandungan silikon tertinggi dalam sistem aloi binari Mo-Si. Ia adalah sebatian antara logam Dalton dengan komposisi tetap,...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Niobium Oksida (Nb2O5).

  Sasaran niobium oksida kami dihasilkan menggunakan penekan panas vakum canggih, penekanan isostatik panas, pensinteran menekan sejuk dan proses penyemburan haba. Produk kami termasuk sasaran segi...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Nikel Oksida (NiO).

  Sasaran NiO ialah bahan yang digunakan dalam teknologi pertumbuhan filem nipis seperti pemendapan wap fizikal (PVD) dan pemendapan wap kimia (CVD). Teknologi ini memainkan peranan penting dalam...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Silicon Carbide (SiC).

  Bahagian ini membincangkan ciri asas sasaran silikon karbida secara terperinci, daripada sifat kimia dan fizikalnya, kaedah penyediaan, kepada analisis komprehensif penunjuk penilaian kualiti,...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Silikon Monoksida (SiO).

  Silikon monoksida ialah sebatian tak organik dengan formula kimia SiO. Ia adalah serbuk amorfus berwarna coklat hitam hingga loes pada suhu dan tekanan bilik.

  Lebih
• Sasaran Sputtering Aluminium Oksida (Al2O3).

  Bahan sasaran aluminium oksida, bahan seramik berketulenan tinggi, berketumpatan tinggi ini, bukan sahaja mempunyai kestabilan yang sangat baik, tetapi juga boleh menahan persekitaran terma yang...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Aluminium Nitride (AlN).

  Sasaran sputtering aluminium nitrida juga boleh dipanggil nitrida aluminium ketulenan tinggi, bahan pemendapan filem nipis, sasaran industri semikonduktor, sasaran sputter AlN, bahan sputtering...

  Lebih