Penerangan Produk
Bahan sasaran ITO, Indium Tin Oxide, adalah bahan pengalir telus yang penting. Dalam bidang penyediaan filem nipis, sasaran ITO digunakan secara meluas sebagai bahan mentah asas dalam peranti elektronik dan optoelektronik. Ia boleh memberikan kekonduksian yang baik sambil mengekalkan ketelusan yang tinggi, menjadikan ITO pilihan ideal untuk menyediakan filem konduktif telus.
Analisis Komposisi dan Komposisi Kimia
Indium Tin Oxide ITO Sputtering Sasaran
Bahan sasaran ITO ialah sebatian yang dibentuk oleh dua unsur, indium (In) dan timah (Sn), dalam persekitaran pengoksidaan. Formula kimianya ialah In2O3: SnO2, dan biasanya, nisbah indium kepada timah mengikut berat adalah lebih kurang 90:10. Gabungan kimia khusus ini memastikan ketelusan yang tinggi dan kekonduksian bahan yang sangat baik. Fungsi utama indium adalah untuk menyediakan kekonduksian yang tinggi, dan penambahan timah digunakan untuk meningkatkan kestabilan kimia dan kekerasan mekanikal keseluruhan bahan.
Sifat fizikal dan kimia
Ketelusan optik: ITO mempamerkan tahap ketelusan yang tinggi, terutamanya dalam jalur cahaya yang boleh dilihat, yang menjadikannya sangat kritikal dalam aplikasi seperti paparan LCD dan skrin sentuh.
Kekonduksian: Kekonduksian ITO adalah satu lagi ciri penting, terutamanya dikaitkan dengan struktur elektronik indium timah oksida, menjadikannya bahan konduktif yang ideal, terutamanya dalam aplikasi yang memerlukan elektrod telus.
Kestabilan terma: Pada suhu tinggi, ITO boleh mengekalkan kestabilan sifat kimia dan fizikalnya, yang penting untuk peranti elektronik yang beroperasi pada suhu tinggi.
Kekerasan mekanikal: Walaupun ITO mempunyai tahap kerapuhan tertentu, kekerasan mekanikalnya masih mencukupi untuk memenuhi keperluan kebanyakan aplikasi elektronik.
|
Nama |
Sasaran Sputtering ITO Indium Tin Oxide Ceramic Sasaran (Sasaran ITO) |
|
bahan |
Bahan Logam Indium |
|
Kesucian |
99.9%-99.999%, 3N,3N5,4N,5N dll |
|
Saiz |
D50.8x3mm,1-10mm, D3x3mm, 2 inci, 3 inci, Atau Sebagai Permintaan |
|
Warna |
Warna hitam |
|
bentuk |
disesuaikan |
|
Permukaan |
Permukaan Digilap |
|
Ketumpatan |
7.31g/cm3 |
|
Takat lebur |
156 darjah |
|
Permohonan |
Salutan Filem PVD, Salutan Filem Nipis Optik, Penggunaan Industri, Proses, Kawasan Semidoduktor, Eksperimen dll |
Cool tags: indium tin oksida (ito) sasaran sputtering, China indium tin oxide (ito) sputtering sasaran pembekal, kilang


