Sasaran Sputtering Boron Carbide (B4C).
Sasaran Sputtering Boron Carbide (B4C).

Sasaran Sputtering Boron Carbide (B4C).

Boron Carbide: Ia ditemui pada abad ke-19 sebagai hasil sampingan penyelidikan borida logam dan tidak dikaji secara saintifik sehingga tahun 1830-an. Ia adalah bahan kelima paling sukar diketahui selepas boron nitrida, berlian, sebatian fullerene dan monolit berlian.
Hantar pertanyaan
Penerangan Produk

 

Boron Carbide: Ia ditemui pada abad ke-19 sebagai hasil sampingan penyelidikan borida logam dan tidak dikaji secara saintifik sehingga tahun 1830-an. Ia adalah bahan kelima paling sukar diketahui selepas boron nitrida, berlian, sebatian fullerene dan monolit berlian.

 

Nota Pengendalian Sasaran Boron Carbide Sputtering

 

  1. Ikatan indium disyorkan untuk bahan ini, kerana beberapa cirinya yang tidak sesuai dengan sputtering seperti kerapuhan, kekonduksian terma yang rendah, dsb.
  2. Boron Carbide Sputtering Target mempunyai kekonduksian terma yang rendah dan terdedah kepada renjatan haba.

 

Aplikasi Sasaran Sputtering Boron Carbide

 

Sasaran sputtering boron karbida digunakan untuk pemendapan filem nipis, hiasan, semikonduktor, paparan, peranti LED dan fotovoltaik, salutan berfungsi sebaik industri ruang penyimpanan maklumat optik lain, industri salutan kaca seperti kaca kereta dan kaca seni bina, komunikasi optik, dsb.

 

Sasaran sputtering B4C Sasaran sputtering boron karbida

produk:

B4C Boron carbide sputtering sasaran

Kesucian:

99.50%

Saiz:

disesuaikan

bentuk:

bulat atau segi empat tepat

Teknologi:

Tekan panas

Permohonan:

industri salutan pvd

Pembungkusan:

pakej vakum, kadbod eksport atau kes kayu di luar

Produk Berkaitan:

ZnO, TiO2, AZO, ITO, Al2O3, Ta2O5, Nb2O5, HfO2 , ZrO2, MoS2, WS2, MoO3, WO3 dan lain-lain.

 

Cool tags: boron karbida (b4c) sasaran sputtering, pembekal sasaran sputtering boron karbida (b4c) China, kilang