Sasaran Sputtering Aluminium Nitride (AlN).

Sasaran sputtering aluminium nitrida juga boleh dipanggil nitrida aluminium ketulenan tinggi, bahan pemendapan filem nipis, sasaran industri semikonduktor, sasaran sputter AlN, bahan sputtering seramik, salutan aluminium nitride, bahan salutan PVD, sasaran pemendapan sputter, substrat filem nipis AlN, sasaran sputtering AlN bahan.

Hantar pertanyaan

Penerangan Produk

Sasaran sputtering aluminium nitrida 99.5% ketulenan tinggi kami direka dengan teliti untuk prestasi optimum dalam pemendapan filem nipis dalam industri semikonduktor. Bahan sputtering seramik termaju ini menjamin kualiti yang tiada tandingan dalam proses salutan PVD. Mempunyai ketulenan yang luar biasa, sasaran pemercikan nitrida aluminium kami memberikan kekonduksian yang luar biasa dan kestabilan terma, menjadikannya pilihan yang tepat untuk aplikasi pemendapan sputter. Substrat filem nipis AlN yang dihasilkan daripada bahan sasaran sputtering gred tinggi kami mempamerkan sifat yang luar biasa, dengan ketara meningkatkan kecekapan salutan filem nipis. Bergantung pada sasaran pemercikan nitrida aluminium kami untuk hasil yang tepat dan boleh dipercayai dalam semua usaha pemendapan filem nipis anda.

Nama barang	Sasaran percikan aluminium nitrida ketulenan tinggi 99.99% Sasaran 4N AlN
Kesucian	99.99%
bentuk	Segi empat / bulat, mengikut permintaan anda
Saiz yang ada	Disesuaikan
Sijil	ISO9001:2008, SGS, laporan ujian ketiga
teknik	Metalurgi serbuk
Permohonan	Digunakan secara meluas dalam industri pemprosesan salutan seperti solar photovoltaic, IC dan elektronik elektronik, sel solar dan sebagainya.
Kelebihan	Tekstur keras yang tinggi Kandungan kekotoran yang rendah Pelesapan haba yang lebih baik Kekuatan tegangan tinggi