Sasaran Sputtering 4N HfO2
Sasaran Sputtering 4N HfO2

Sasaran Sputtering 4N HfO2

4N High-Ketulenan Hafnium Dioxide Sputtering Sasaran (99.99% Ketulenan)—sesuai untuk aplikasi dalam salutan optik, semikonduktor dan elektronik ketepatan. Mempunyai ketumpatan tinggi, komposisi seragam dan prestasi sputtering yang stabil.
Hantar pertanyaan
Penerangan Sasaran Sputtering 4N HfO2

 

Bahan sasaran hafnium dioksida ialah bahan berfungsi yang terdiri daripada-ketulenan tinggi hafnium dioksida (HfO₂), digunakan terutamanya dalam-proses pemendapan filem nipis seperti Pemendapan Wap Fizikal (PVD) dan magnetron sputtering. Ciri terasnya termasuk takat lebur yang tinggi, kestabilan kimia yang sangat baik, sifat penebat elektrik yang unggul, dan ketelusan optik dalam julat panjang gelombang tertentu. Ketulenan yang tinggi adalah asas untuk memastikan keseragaman filem yang didepositkan, prestasi optiknya dan kebolehpercayaan peranti, kerana kekotoran boleh membawa kepada kecacatan filem. Kestabilan kualiti bahan sasaran secara langsung berkorelasi dengan kebolehulangan proses pemendapan dan hasil produk akhir. Dengan kemajuan berterusan teknologi semikonduktor, optoelektronik dan pembuatan termaju, permintaan untuk sasaran hafnium dioksida berprestasi tinggi-tinggi semakin meningkat, memberikan prospek pasaran yang luas.

 

Aplikasi Sasaran Sputtering 4N HfO2

 

Pembuatan Semikonduktor: Sebagai bahan-dielektrik-tinggi (tinggi-}k) tinggi, ia digunakan dalam fabrikasi penebat get transistor termaju, menyumbang kepada prestasi peranti yang dipertingkatkan dan pengecilan.
Peranti Optoelektronik: Oleh kerana sifat optiknya yang luar biasa-seperti indeks biasan yang tinggi dan kehilangan penyerapan yang rendah-ia digunakan secara meluas dalam salutan optik untuk penghasilan lapisan-pantulan anti, penapis optik, komponen laser dan-filem optik berprestasi tinggi.
Seramik dan Salutan Khusus: Memanfaatkan kekerasannya yang tinggi dan rintangan haus, ia berfungsi dalam pembuatan bahan seramik termaju serta salutan pelindung yang mampu menahan suhu tinggi dan kakisan.
Penyelidikan Frontier: Dalam bidang baru muncul seperti pengkomputeran kuantum, hafnium dioksida menunjukkan potensi untuk digunakan sebagai bahan dielektrik untuk qubit.

 

Spesifikasi Sasaran Sputtering 4N HfO2

 

Ketulenan: 99.9%,99.99%;

Kaedah Pengeluaran: pensinteran akhbar panas

Dimensi yang tersedia:

Pekeliling: Diameter Kurang daripada atau sama dengan 14 inci, Ketebalan Lebih daripada atau sama dengan 3 mm;

Segi empat tepat: Panjang Kurang daripada atau sama dengan 14 inci, Lebar Kurang daripada atau sama dengan 10 inci, Ketebalan Lebih Besar daripada atau sama dengan 3 mm.

Jenis Bon: Indium

 

Kawalan Kualiti dan Pengujian Sasaran Sputtering 4N HfO2

 

2QC

 

Soalan Lazim Untuk Sasaran Sputtering 4N HfO2

 

Adakah anda seorang kilang atau apengilang?
J: Ya, kami adalah kilang 4N HfO2 Sputtering Target, tetapi kami biasanya menggunakan syarikat perdagangan kami untuk mengendalikan perniagaan di luar negara. Ia akan menjadi lebih mudah untuk menerima kiriman wang dan mengatur penghantaran.

Apakah kaedah penyampaian?
J: Secara amnya, kami menghantar Sasaran Sputtering 4N HfO2 melalui UPS, DHL atau FedEx. Juga, kami boleh menghantar melalui laut ke pelabuhan laut atau melalui udara ke lapangan terbang terdekat.

Mengapakah Sasaran Sputtering 4N HfO2 anda begitu kos-berkesan?
J: Kami memotong orang tengah pada akhir-hingga-proses pembuatan dan kami memperoleh bahan mentah terus daripada sumbernya.

Adakah anda melakukan pemeriksaan kualiti tempatproduk?
A: 100% pemeriksaan penuh pasti. Semua Sasaran Sputtering 4N HfO2 yang tidak layak dibuang.

Bagaimanakah anda memastikan masa utama anda?
J: Daripada penyediaan bahan kepada pemesinan dan akhirnya kepada pemeriksaan penuh. Setiap peringkat pengeluaran dipantau dan dikawal dengan ketat untuk memberikan anda masa penghantaran yang tepat.

Apakah MOQ bagi 4N HfO2 Sputtering Target?
A: Bergantung pada kuantiti 4N HfO2 Sputtering Target; secara amnya, tiada had MOQ.

Bagaimana untuk membayarproduk tersebut?
J: Pindahan bank (T/T) akan diterima.

Apakah masa penghantaran?
A: Sekitar 7-20 hari, yang bergantung kepada kuantiti dan pengeluaran 4N HfO2 Sputtering Target.

Pakej macam mana?
J: Secara amnya, kami menggunakan kotak karton atau kotak papan lapis dengan bahan pelindung di dalamnya untuk memastikan keselamatan Sasaran Sputtering 4N HfO2.

Apakah masa utama?
J: Dari pesanan yang dibuat ke penerimaan kargo akan mengambil masa sekitar 10-25 hari.

 

4

 

Cool tags: Sasaran sputtering 4n hfo2, pembekal sasaran sputtering 4n hfo2 China, kilang