Tantalum Oksida (Ta2O5) Sasaran Sputtering
Tantalum Oksida (Ta2O5) Sasaran Sputtering

Tantalum Oksida (Ta2O5) Sasaran Sputtering

Tantalum Oxide Sputtering Target boleh digunakan dalam semikonduktor, pemendapan wap kimia (CVD), paparan pemendapan wap fizikal (PVD) dan aplikasi optik. Kami adalah pembekal Tantalum Oxide Sputtering Target berkualiti tinggi pada harga yang kompetitif.
Hantar pertanyaan
Penerangan Produk

 

Tantalum Oxide Sputtering Target boleh digunakan dalam semikonduktor, pemendapan wap kimia (CVD), paparan pemendapan wap fizikal (PVD) dan aplikasi optik. Kami adalah pembekal Tantalum Oxide Sputtering Target berkualiti tinggi pada harga yang kompetitif.

 

Dalam pembuatan litar bersepadu, sasaran tantalum pentoksida sering digunakan untuk menyediakan lapisan dielektrik kapasitor. Oleh kerana tantalum pentoxide mempunyai sifat dielektrik yang baik dan indeks biasan yang tinggi, ia boleh memberikan kapasitans yang stabil dan kelajuan penghantaran isyarat yang tinggi dalam kapasitor. Di samping itu, tantalum pentoksida juga boleh digunakan untuk menyediakan filem optik, seperti kanta optik dan penapis. Indeks biasan yang tinggi dan ketelusan memberikan kelebihan unik dalam peranti optik.

 

Sasaran Tantalum pentoxide juga digunakan dalam medan tenaga. Oleh kerana kestabilan kimia yang baik dan takat lebur yang tinggi, tantalum pentoksida boleh digunakan sebagai komponen utama bateri suhu tinggi dan peranti storan tenaga. Ia mempunyai kekonduksian elektrik yang sangat baik dan mobiliti elektron yang rendah dalam persekitaran suhu tinggi, jadi ia boleh memberikan penukaran tenaga dan prestasi penyimpanan yang cekap. Pensinteran sasaran tantalum pentoksida merupakan langkah penting dalam menyediakan bahan seramik berfungsi berprestasi tinggi.

 

Dengan mengawal suhu dan masa pensinteran, sasaran dengan struktur mikro seragam dan struktur kristal padat boleh diperolehi. Sasaran Tantalum pentoxide mempunyai prospek aplikasi yang luas dalam bidang elektronik, optik dan tenaga, dan akan memberikan sokongan dan promosi penting untuk pembangunan bidang berkaitan.

 

Aplikasi

 

Tantalum Oxide Sputtering Target digunakan terutamanya dalam industri elektronik dan maklumat, medan salutan kaca, bahan tahan haus, rintangan kakisan suhu tinggi, barangan hiasan gred tinggi dan industri lain.

 

bahan

Sasaran Ta2O5

Kesucian

99.99%

Saiz

Diameter 1","2", 3", 4" atau Disesuaikan

Ketumpatan Relatif

melebihi 80%

bentuk

Bulat, segi empat tepat, butiran atau disesuaikan

Teknologi

Mensterilkan

Ikatan

Indium, Elastomer

Permukaan

tanah

 

Cool tags: tantalum oksida (ta2o5) sasaran sputtering, pembekal sasaran sputtering tantalum oxide (ta2o5) China, kilang