Penerangan Produk
Implantasi ion ialah sejenis teknologi tinggi pengubahsuaian permukaan bahan yang telah berkembang pesat dan digunakan secara meluas di peringkat antarabangsa dalam tempoh tiga dekad yang lalu, merealisasikan pengoptimuman sifat permukaan bahan atau boleh memperoleh beberapa sifat cemerlang baharu. Oleh kerana ciri-ciri unik dan cemerlang teknologi tinggi ini, ia merupakan teknologi yang sangat penting dalam pembuatan litar bersepadu moden. Ia menggunakan mesin implantasi ion untuk merealisasikan doping semikonduktor dan menukar kekonduksian dan struktur transistor semikonduktor.
Proses pemprosesan peranti tungsten berketepatan tinggi untuk implantasi ion semikonduktor ialah serbuk tungsten → menekan → pensinteran → bergolek → rawatan haba produk siap → pemotongan wayar → pemesinan.
Ciri-ciri
Ketulenan pandu gelombang molibdenum adalah melebihi 99.95%;
Ketumpatannya lebih tinggi daripada 10.2g/cm³;
Dimesin dengan tepat dan dengan kekasaran permukaan yang sangat baik;
Pandu gelombang molibdenum mempunyai rintangan haus yang kuat.
Industri aplikasi
Industri bahan semikonduktor
Industri pengangkutan marin
Industri optik dan optoelektronik
Industri aeroangkasa
Sesuai untuk bahagian implantasi
Bilik (grafit, tungsten, molibdenum dan aloi)
Filamen (aloi tungsten dan tungsten)
Bilah (grafit, tungsten, molibdenum dan aloi)
Kurungan (tungsten, molibdenum dan aloi)
Katod (tungsten, molibdenum dan aloi)
Alat ganti (grafit, tungsten, molibdenum dan aloi, seramik, keluli)
Cool tags: bahagian implantasi tungsten molibdenum yang dimesin tersuai, pembekal bahagian implantasi tungsten molibdenum tersuai dimesin China, kilang
