Penerangan Produk
Sputtering ialah kaedah Pemendapan Wap Fizikal (PVD) jenis baharu. Sputtering digunakan secara meluas dalam: paparan panel rata, industri kaca (termasuk kaca seni bina, kaca automotif, kaca filem optik), sel suria, kejuruteraan permukaan, media rakaman, mikroelektronik, lampu automotif dan salutan hiasan, dsb.
Jenis dan Saiz
|
Nama Produk |
Sasaran percikan tungsten(W-1). |
|
Ketulenan Tersedia(%) |
99.95% |
|
bentuk: |
Plat, bulat, berputar |
|
Saiz |
saiz OEM |
|
Takat lebur(ijazah) |
3407( darjah ) |
|
Isipadu atom |
9.53 cm³/MOL |
|
Ketumpatan(g/cm³) |
19.35g/cm³ |
|
Pekali suhu rintangan |
0.00482 I/ ijazah |
|
Haba pemejalwapan |
847.8 kJ/mol(25 darjah ) |
|
Haba terpendam lebur |
40.13±6.67kJ/mol |
|
keadaan permukaan |
Basuh pengilat atau alkali |
|
Permohonan: |
Aeroangkasa, peleburan nadir bumi, sumber cahaya elektrik, peralatan kimia, peralatan perubatan, jentera metalurgi, peralatan peleburan, petroleum, dsb. |
ciri-ciri
(1) Permukaan licin tanpa liang, calar dan ketidaksempurnaan lain
(2) Tepi pengisaran atau pelarik, tiada kesan pemotongan
(3) Lerel kesucian material yang tiada tandingan
(4) Kemuluran yang tinggi
(5) Trukaltur mikro homogen
(6) Penandaan laser untuk Item istimewa anda dengan nama, jenama, saiz ketulenan dan sebagainya
(7) Setiap pcs sasaran sputtering daripada item & nombor serbuk, pekerja pencampur, gas keluar dan masa HIP, pemesinan orang dan butiran pembungkusan semuanya dibuat sendiri.
Aplikasi
1. Cara penting untuk membuat bahan filem nipis ialah sputtering-cara baharu pemendapan wap fizikal (PVD). Filem nipis yang dibuat oleh sasaran dicirikan oleh ketumpatan tinggi dan pelekat yang baik. Memandangkan teknik sputtering magnetron digunakan secara meluas, sasaran logam tulen dan aloi yang tinggi amat diperlukan. Dengan takat lebur yang tinggi, keanjalan, pekali pengembangan terma yang rendah, kerintangan dan kestabilan haba halus, sasaran aloi tungsten dan tungsten tulen digunakan secara meluas dalam litar bersepadu semikonduktor, paparan dua dimensi, fotovoltaik suria, tiub sinar X dan kejuruteraan permukaan.
2. Ia boleh berfungsi dengan kedua-dua rekaan sputtering yang lebih lama serta peralatan proses terkini, seperti salutan kawasan besar untuk tenaga suria atau sel bahan api dan aplikasi cip selak.
Cool tags: ketulenan tinggi 99.95% sasaran sputtering tungsten, China ketulenan tinggi 99.95% sasaran sputtering tungsten pembekal, kilang
