Sasaran sputtering tial

Sasaran sputtering tial

Teknologi Sputtering Magnetron adalah salah satu teknologi utama untuk menyediakan bahan -bahan filem nipis, dan sasaran sputtering logam adalah bahan utama dalam proses sputtering.

Sasaran sputtering mempunyai ciri -ciri yang sangat baik dari titanium logam dan aluminium logam, seperti kemuluran yang tinggi, rintangan haus yang tinggi, kekonduksian elektrik dan terma yang sangat baik, mikrostruktur yang optimum, ketahanan yang baik, prestasi etsa dan prestasi pemprosesan yang baik, prestasi ikatan yang baik dengan substrat, dan sebagainya.

Sasaran sputtering tial boleh sputter keras dan lapisan nitrida tahan pengoksidaan (TIALN) pada latihan, pemotong, sisipan pemotongan yang boleh diindeks dan alat lain, dan meningkatkan kadar suapan, pemotongan prestasi dan hayat perkhidmatan alat pemprosesan.

Sasaran sputtering tial juga menghasilkan lapisan pelekat dan penutup dalam litar bersepadu, salutan hiasan untuk peranti elektronik (seperti panggilan untuk telefon bimbit, paparan panel rata, atau jam tangan mewah), dan salutan kaca untuk industri automotif.

Spesifikasi sasaran sputtering tial

Soalan Lazim:

Apa itu moq?
A: Bergantung pada kuantiti, secara amnya, tiada had MOQ.

Bagaimana untuk membayarnya?
A: Pemindahan bank (T\/T) akan diterima.

Berapakah masa penghantaran?
A: Sekitar 7-20 hari yang bergantung kepada kuantiti dan pengeluaran.

Apakah pakejnya?
A: Kes kartun atau kes papan lapis.

Apakah masa utama?
A: Dari perintah yang ditempatkan ke kargo penerimaan akan mengambil masa 10-25 hari.

Apakah kaedah penghantaran?
A: Secara amnya, kami menghantar kargo oleh UPS, DHL atau FedEx. Juga, kita boleh menghantar laut ke pelabuhan atau udara ke lapangan terbang terdekat.

Gambar sasaran sputtering tial

Cool tags: sasaran sputtering, pembekal sasaran sputtering china, kilang