Bahan Salutan PVD

• Pelet Molibdenum (Mo).

  Molibdenum, logam peralihan berwarna putih keperakan dan sangat keras, menonjol kerana ketahanan, kekuatan dan ketahanannya yang luar biasa terhadap kedua-dua kakisan dan suhu melampau. Lebih...

  Lebih
• Pelet Niobium (Nb).

  Niobium ialah unsur kimia. Simbol kimia Nb, nombor atom 41, berat atom 92.90638, tergolong dalam kumpulan VB sistem berkala. Unsur logam. Niobium menyerap gas, digunakan sebagai degasser, dan juga...

  Lebih
• Pelet Nikel (Ni).

  Filem logam nikel mempunyai kekonduksian yang baik, rintangan kakisan dan keplastikan, dan digunakan secara meluas dalam industri semikonduktor dan mikroelektronik.

  Lebih
• Sasaran Sputtering Tin Oksida (SnO2).

  Sasaran oksida timah (SnO2) ialah bahan bukan logam bukan organik yang penting. Oleh kerana sifat fizikal dan kimianya yang unik, ia memainkan peranan penting dalam banyak bidang berteknologi...

  Lebih
• Tantalum Oksida (Ta2O5) Sasaran Sputtering

  Tantalum Oxide Sputtering Target boleh digunakan dalam semikonduktor, pemendapan wap kimia (CVD), paparan pemendapan wap fizikal (PVD) dan aplikasi optik. Kami adalah pembekal Tantalum Oxide...

  Lebih
• Titanium Oksida (TiO2) Sasaran Sputtering

  Titanium dioksida (TiO2) ialah pigmen putih yang paling banyak digunakan, contohnya dalam cat. Ia mempunyai kecerahan tinggi dan indeks biasan yang sangat tinggi (2.609 untuk rutil).

  Lebih
• Sasaran Sputtering Zink Oksida (ZnO).

  Sasaran Percikan Zink Oksida (ZnO) digunakan untuk Pemendapan Wap Fizikal Pemendapan Magnetron. Pelbagai diameter, ketebalan dan ketulenan tersedia untuk disesuaikan dengan semua pengeluar sumber...

  Lebih
• Magnesium Fluorida（MgF2）Sasaran Sputtering

  Magnesium fluorida ialah garam kristal putih dan lutsinar pada julat panjang gelombang yang luas, dengan kegunaan komersil dalam optik yang juga digunakan dalam teleskop angkasa. Ia berlaku secara...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Litium Kobalt Oksida (LiCoO2).

  Litium kobalt oksida ialah struktur berlapis, menyediakan terowong dua dimensi untuk penghijrahan Litium-ion. Sasaran sputtering LiCoO2 ialah bahan yang bagus untuk membuat bateri kerana prestasi...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Molibdenum Oksida (MoO3).

  Sasaran Sputtering Molibdenum Oksida boleh digunakan dalam semikonduktor, pemendapan wap kimia (CVD), paparan pemendapan wap fizikal (PVD) dan aplikasi optik. Kami adalah pembekal Sasaran...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Magnesium Oksida (MgO).

  Magnesium oksida dalam sasaran sputtering terutamanya dicerminkan dalam pembentukan filem berkelajuan tinggi, aplikasi dalam industri mikroelektronik dan fotovoltaik, proses penyediaan khusus dan...

  Lebih
• Sasaran Sputtering Molibdenum Disulfida (MoS2).

  MoSi2 ialah struktur tetragonal. Ia adalah fasa pertengahan dengan kandungan silikon tertinggi dalam sistem aloi binari Mo-Si. Ia adalah sebatian antara logam Dalton dengan komposisi tetap,...

  Lebih