Sasaran Sputtering Silikon (Si).

Silikon polikristalin, juga dikenali sebagai poli-silikon atau poli-Si, ialah bentuk silikon polikristalin ketulenan tinggi, digunakan sebagai bahan mentah oleh industri fotovoltan suria dan elektronik. Poli-silikon dihasilkan daripada silikon gred metalurgi melalui proses penulenan kimia, dipanggil proses Siemens. Proses ini melibatkan penyulingan sebatian silikon yang meruap, dan penguraiannya menjadi silikon pada suhu tinggi. Proses penapisan alternatif yang baru muncul menggunakan reaktor katil terbendalir.

Industri fotovoltaik juga menghasilkan silikon gred metalurgi yang dinaik taraf (UMG-Si), menggunakan metalurgi dan bukannya proses penulenan kimia. Apabila dihasilkan untuk industri elektronik, poli-silikon mengandungi paras kekotoran kurang daripada satu bahagian per bilion (ppb), manakala silikon gred suria poli-hablur (SoG-Si) umumnya kurang tulen.

Stok suapan poli-silikon - rod besar, biasanya dipecahkan kepada ketulan saiz tertentu dan dibungkus dalam bilik bersih sebelum penghantaran - dibuang terus ke dalam jongkong berbilang kristal atau diserahkan kepada proses penghabluran semula untuk menumbuhkan boul kristal tunggal. Produk tersebut kemudiannya dihiris menjadi wafer silikon nipis dan digunakan untuk pengeluaran sel suria, litar bersepadu dan peranti semikonduktor lain.

Sasaran sputtering silikon, sebagai bahan berfungsi yang sangat penting, ia digunakan terutamanya untuk mendepositkan SiO2, Si3N4 dan lapisan dielektrik lain melalui proses sputtering magnetik. Filem nipis tersebut dicirikan oleh kekerasan yang sangat baik, sifat optik, dielektrik, rintangan haus dan kakisan, yang digunakan secara meluas untuk bidang kaca pengalir telus LCD, kaca bangunan RENDAH-E dan mikro-elektronik.

Sasaran planar / rotary SiAl

Sasaran sputtering SiO2

Sasaran sputtering SiC

Sasaran sputtering Si3N4

Cool tags: sasaran sputtering silikon (si), pembekal sasaran sputtering silikon (si) China, kilang