Sasaran Sputtering Kuprum (Cu).

Sasaran sputtering kuprum mempunyai sifat yang sama seperti logam tembaga（Cu）. Tembaga ialah unsur kimia dengan simbol Cu (dari bahasa Latin: cuprum) dan nombor atom 29. Ia adalah logam lembut, mudah ditempa dan mulur dengan haba dan elektrik yang sangat tinggi kekonduksian.

Hantar pertanyaan

Penerangan Produk

Sasaran sputtering kuprum mempunyai sifat yang sama seperti logam kuprum(Cu). Tembaga ialah unsur kimia dengan simbol Cu (dari bahasa Latin: cuprum) dan nombor atom 29. Ia adalah logam lembut, mudah ditempa dan mulur dengan haba dan elektrik yang sangat tinggi kekonduksian. Kuprum tulen yang baru terdedah berwarna jingga merah jambu. Tembaga digunakan sebagai konduktor haba dan elektrik, sebagai bahan binaan, dan sebagai juzuk pelbagai aloi logam. Sasaran Sputtering Tembaga dihasilkan oleh teknologi lebur, ia digunakan secara meluas untuk semikonduktor, salutan hiasan dan medan pembungkusan termaju.

Kami boleh menghasilkan sasaran sputtering tembaga dengan ketulenan 99.9%~99.9999%, dan kandungan oksigen terendah boleh menjadi pendawaian semikonduktor, dll. Kami bukan sahaja menghasilkan sasaran sputtering tembaga planar (penjanaan maksimum G8.5), tetapi juga sasaran berputar tembaga, yang digunakan terutamanya untuk industri skrin sentuh. Oleh kerana sukar untuk memecahkan bijirin, kita hanya boleh memproses dengan ubah bentuk yang sangat besar dan mengawal pertumbuhan kembar untuk mencapai struktur mikro yang halus dan seragam, yang memastikan kadar hakisan yang lebih rendah dan kepekaan pembentukan zarah semasa sputtering.

Berikut ialah dua mikrograf sasaran percikan kuprum kami, saiz butiran purata＜50μm

Spesifikasi Kuprum (Cu).

Jenis Bahan	Tembaga
Simbol	Cu
Berat Atom	63.546
Nombor atom	29
Warna/Penampilan	Tembaga, Logam
Kekonduksian terma	400 W/m.K
Takat Lebur ( darjah )	1,083
Pekali Pengembangan Terma	16.5 x 10-6/K

Sasaran percikan tembaga dan kaedah penyediaan

Tembaga ditulenkan daripada 99.95% kepada 99.99%, 99.999%, dan 99.9999% melalui pelbagai elektrolisis dan peleburan serantau. Ketulenan tertinggi di China ialah kira-kira 99.9999% (6N). Dengan jongkong tembaga ketulenan tinggi sebagai bahan mentah, penempaan, penggulungan, dan rawatan haba bahan mentah boleh menjadikan butiran kristal dalam jongkong tembaga menjadi lebih kecil dan meningkatkan ketumpatan untuk memenuhi keperluan sasaran tembaga untuk sputtering. Bahan tembaga ketulenan tinggi selepas rawatan ubah bentuk diproses secara mekanikal. Pemprosesan sasaran tembaga memerlukan ketepatan tinggi dan kualiti permukaan yang tinggi, dan ia boleh diproses menjadi saiz sasaran yang diperlukan oleh mesin salutan vakum.