Hafnium（Hf）Sasaran Sputtering

Sasaran sputtering Hafnium mempunyai prestasi yang sama seperti hafnium logam (Hf). Hafnium dengan takat lebur 2233 darjah, takat didih 4603 darjah, dan ketumpatan 13.31g/cm3. Ia adalah logam peralihan perak-kelabu berkilat. Hafnium logam mempunyai kekuatan sederhana, rintangan kakisan yang baik, dan kapasiti penyerapan neutron yang tinggi. Ia digunakan secara meluas dalam industri tenaga atom; hafnium boleh membentuk pelbagai aloi dan juga boleh digunakan sebagai salutan permukaan untuk logam asas. Kami boleh menyediakan hafnium ketulenan tinggi yang diimport dengan zirkonium rendah, yang boleh diproses menjadi sasaran dan zarah.

Dengan memperkenalkan tekanan separa oksigen, filem hafnium oksida boleh disediakan dengan sputtering elektrik atau sputtering reaktif dengan sasaran sputtering hafnium. Filem nipis yang terhasil boleh digunakan dalam pelbagai aplikasi, termasuk salutan optik untuk fotonik, rintangan filem nipis, rintangan kakisan, produk nuklear, penebat pintu dalam litar bersepadu dan penderia.

Sasaran sputtering NiHf

Sasaran terpercik NbHfTi

Sasaran sputtering HfO2

Sasaran sputtering HfC

Sasaran sputtering HfB2

Cool tags: hafnium（hf）sasaran sputtering, China hafnium（hf）pembekal sasaran sputtering, kilang