Penerangan Produk

Sasaran sputtering tantalum terdiri daripada logam tantalum kelabu keluli tulen tinggi. Tantalum ialah logam peralihan berkilat kelabu kebiruan dengan rintangan kakisan yang tinggi. Ia adalah sebahagian daripada kategori logam refraktori dan digunakan secara meluas sebagai komponen kecil dalam aloi. Tantalum adalah gelap (biru-kelabu), padat, mulur, sangat keras, mudah untuk dihasilkan, dan mempunyai kekonduksian haba dan elektrik yang tinggi. Logam ini terkenal dengan ketahanannya terhadap kakisan asid. Malah, pada suhu di bawah 150 darjah, tantalum hampir kebal sepenuhnya kepada aqua regia biasa.

Tantalum Sputtering Target dihasilkan oleh peleburan EB. Ia biasanya digunakan untuk media rakaman magnetik, komponen pencetak, paparan panel rata, optik, kaca industri dan perintang filem nipis. Tantalum Sputtering Target ketulenan tinggi biasanya digunakan untuk industri semikonduktor. Kekuatan semula jadinya yang tinggi dengan pekali pengembangan terma yang rendah, bersama-sama dengan keupayaannya untuk melekat pada kedua-dua kuprum dan silikon menjadikannya pilihan yang sempurna untuk penghalang resapan untuk menghalang kuprum dan silikon daripada berinteraksi.

Yitech ialah pengeluar profesional sasaran sputtering Tantalum dengan pelbagai bentuk dan ketulenan, yang digunakan terutamanya untuk industri separa konduktif & mikro-elektronik. Terima kasih kepada proses pembentukan khas kami, sasaran sputtering Tantalum kami mempunyai ketumpatan yang lebih tinggi, saiz zarah purata yang lebih kecil serta ketulenan yang lebih tinggi, supaya anda boleh mendapat manfaat daripada proses yang lebih pantas disebabkan oleh kelajuan sputtering yang lebih tinggi dan mendapatkan lapisan Tantalum yang sangat homogen.

Struktur mikro boleh dilaraskan oleh proses pengeluaran fleksibiliti kami, untuk mencapai kesan yang anda inginkan. Jika butiran sasaran sputtering dijajarkan secara seragam, pengguna boleh mendapat manfaat daripada kadar hakisan berterusan dan lapisan homogen. Berikut ialah dua mikrograf sasaran tantalum sputtering kami, saiz butiran purata ＜100μm.

Nama Atribut: Sasaran sputtering logam ketulenan tinggi

Nama Produk:Tantalum Sputtering Target

Simbol Unsur:Ta

Ketulenan: 3N5, 4N, 4N5, 5N

Bentuk: Sasaran planar, Sasaran berputar