Sasaran Sputtering Silicon Nitride (Si3N4).
Sasaran Sputtering Silicon Nitride (Si3N4).

Sasaran Sputtering Silicon Nitride (Si3N4).

Sasaran sputtering silikon nitrida ialah sejenis sasaran sputtering seramik nitrida. Si3N4 ialah bahan seramik takat lebur tinggi yang sangat keras dan lengai secara kimia. Si3N4 disediakan dengan memanaskan silikon serbuk antara 1300 darjah dan 1400 darjah dalam suasana nitrogen.
Hantar pertanyaan
Penerangan Produk

 

Sasaran sputtering silikon nitrida ialah sejenis sasaran sputtering seramik nitrida. Si3N4 ialah bahan seramik takat lebur tinggi yang sangat keras dan lengai secara kimia. Si3N4 disediakan dengan memanaskan silikon serbuk antara 1300 darjah dan 1400 darjah dalam suasana nitrogen. Kemudian serbuk silikon nitrida boleh disinter ke bentuk yang direka. Sasaran sputter silikon nitrida digunakan untuk pemendapan filem nipis.

 

Nama Produk

Sasaran sputtering silikon nitrida

Kesucian yang Tersedia

99.9% min, sebagai permintaan

Bentuk yang tersedia

bulat, segi empat tepat, pelet

Saiz

Boleh dirunding

Teknologi

metalurgi serbuk

Permohonan

Salutan vakum, Proses, Hiasan, LED, Semi,

Produk berkaitan

ZrO2.SiN,LaB6,Cr2O3,C,B, dan lain-lain

Cool tags: silikon nitrida (si3n4) sasaran sputtering, China silicon nitride (si3n4) sputtering sasaran pembekal, kilang