Penerangan Produk
Kilang kami menghasilkan Sasaran Sputtering Zink Oksida (AZO) berdop Aluminium ketulenan tinggi dengan ketumpatan tertinggi yang mungkin dan saiz butiran purata terkecil mungkin untuk digunakan dalam paparan semikonduktor, pemendapan wap kimia (CVD) dan pemendapan wap fizikal (PVD) dan aplikasi optik.
Menghasilkan Sasaran Sputtering Zinc Oxide/Aluminium Oxide (AZO) dengan bentuk berbeza seperti cakera, segi empat tepat, lajur, langkah dan bentuk tersuai. Diameter biasa untuk sasaran bulat termasuk 1 inci, 2 inci, 3 inci, 4 inci atau 50mm, 60mm, 80mm, 100mm dll. Ketebalan biasa termasuk 0.125 inci dan 0.25 inci atau 3mm , 4mm, 5mm, 6mm dll.
Sasaran Sputtering kami boleh diikat dengan plat sokongan tembaga sebagai reuqest. Ketulenan, bentuk dan saiz yang berbeza juga boleh dibuat khas untuk Sasaran Sputtering Zinc Oxide/Aluminium Oxide (AZO).
Daripada pemilihan bahan mentah kepada kawalan suhu, tekanan dan masa pensinteran akhbar panas, kami dengan ketat mengikuti proses pengeluaran tertentu, oleh itu sasaran sputtering seramik siap mempunyai ciri-ciri ketulenan tinggi, ketumpatan tinggi, warna permukaan seragam tanpa bintik-bintik dan retak, pengguna akhir boleh mendapatkan kadar hakisan yang berterusan dan filem nipis tulen dan homogen yang tinggi semasa proses PVD.
Zink Oksida/Aluminium Oksida (AZO) Sasaran Sputtering
Komposisi Biasa: ZnO/Al2O3=98/2wt%, 99/1wt%, dsb
Ketulenan: 99.99%;
Kaedah Pengeluaran: pensinteran akhbar panas
Dimensi yang tersedia:
Pekeliling: Diameter=1", 2", 3" dan 4", saiz lain boleh disesuaikan
Segi empat tepat: Panjang=3mm dan 6mm
Spesifikasi
|
Jenis Bahan |
Alumina didopkan Zink Oksida |
|
Simbol |
Al2O3/ZnO 2/98 wt% |
|
Warna / Rupa |
Pepejal dalam pelbagai bentuk |
|
Takat Lebur ( darjah ) |
N/A |
Cool tags: zink oksida/aluminium oksida (azo-zno/al2o3) sasaran sputtering, China zink oksida/aluminium oksida (azo-zno/al2o3) sputtering sasaran pembekal, kilang
