Penerangan Produk
Sasaran aloi nikel-vanadium ketulenan tinggi mempunyai kilauan logam perak-putih, ketumpatan: 6.11g/cm3, takat lebur ialah 1910 darjah, takat didih ialah 3407 darjah. Ia adalah salah satu aloi sputtering filem nipis yang paling penting dalam medan semikonduktor. Ia mempunyai sifat kimia, elektrik dan optik yang diperlukan untuk Ni tulen dengan kelebihan tambahan sebagai bukan feromagnetik. Disebabkan sifat bukan feromagnetiknya, ia mudah digunakan dalam peralatan sputtering magnetron berkelajuan tinggi.
|
elemen: |
aloi NiV |
|
Kesucian: |
3N 3N5 |
|
bentuk: |
Sasaran planar; Putar sasaran |
|
MOQ: |
1 pcs |
|
Pakej: |
Pembungkusan vakum tiga lapisan atau perlindungan gas argon, selaras dengan spesifikasi pembungkusan IATA, DOT |
Spesifikasi
Saiz: D152.4X6mm , boleh disesuaikan atas permintaan.
Bentuk: sasaran rata, sasaran berputar, penyesuaian berbentuk khas
Aliran proses Penyediaan Bahan - Pencairan - Analisis Kimia - Penempaan - Penggulungan - Penyepuhlindapan - Pemeriksaan Metalografik - Pemesinan - Pemeriksaan Dimensi - Pembersihan - Pemeriksaan Akhir - Pembungkusan
Permohonan
Terutamanya digunakan dalam sputtering magnetron reaktif untuk mendepositkan lapisan dielektrik seperti SiO2 dan SiN. Sebagai bahan filem nipis berfungsi yang penting, ia mempunyai kekerasan yang baik, sifat optik, dielektrik dan rintangan haus. Rintangan kakisan sasaran silikon mempunyai prospek aplikasi yang luas dalam bidang optik dan mikroelektronik, dan kini digunakan secara meluas sebagai bahan berfungsi di seluruh dunia. Pada masa ini, sasaran vanadium nikel digunakan dalam pemendapan filem nipis, hiasan, semikonduktor, paparan, peranti LED dan fotovoltaik, salutan berfungsi dan industri ruang penyimpanan maklumat optik lain, industri salutan kaca seperti kaca automotif dan kaca seni bina, komunikasi optik, dsb.
Cool tags: sasaran sputtering nikel vanadium (niv), pembekal sasaran sputtering nikel vanadium (niv) China, kilang
