Penerangan Produk
Cerium Gadolinium Alloy Sputtering Target (CeGd) ialah bahan utama dalam pemendapan filem nipis. Aloi ini, menggabungkan serium dan gadolinium, menawarkan sifat unik untuk aplikasi salutan. Sasaran CeGd memainkan peranan penting dalam pelbagai industri, memudahkan pengeluaran salutan termaju dengan fungsi dan prestasi yang dipertingkatkan.
Sasaran Sputtering Aloi Cerium Gadolinium (CeGd).
Ketulenan: 99.5%, 99.9%
Komponen: Dibuat Tersuai
Bentuk: Cakera, Plat, Langkah (Dia 300mm,, Ketebalan 1mm) Segi Empat, Lembaran, Langkah (Panjang 500mm, Lebar 200mm, Tebal 1mm) Tiub( Diameter< 300mm, Thickness >2mm)
Penggunaan Sasaran Sputtering Aloi Gadolinium Cerium (CeGd)
1 Penapis Optik Berprestasi Tinggi: Salutan aloi CeGd boleh direka bentuk untuk mencipta penapis optik berprestasi tinggi yang menghantar atau menyekat panjang gelombang cahaya tertentu secara selektif. Penapis ini penting dalam aplikasi seperti fotografi, sistem laser dan pemerhatian astronomi, di mana kawalan tepat ke atas penghantaran cahaya adalah penting.
2 Salutan Anti-Reflektif: Penggunaan aloi CeGd dalam salutan anti-reflektif adalah penting untuk meningkatkan kecekapan dan keterlihatan peranti optik. Salutan ini digunakan pada permukaan kanta, paparan dan sel fotovoltaik untuk mengurangkan pantulan yang tidak diingini, dengan itu meningkatkan penghantaran cahaya dan mengurangkan silau.
3 Salutan Pelindung untuk Sinaran UV: Keupayaan Cerium untuk menyerap sinaran ultraungu (UV) menjadikan salutan aloi CeGd amat berguna dalam melindungi komponen sensitif daripada kerosakan UV. Aplikasi ini penting dalam teknologi angkasa lepas, di mana peralatan terdedah kepada sinaran UV yang sengit, serta dalam cermin mata dan teknologi paparan luar yang memerlukan perlindungan UV.
4 Bahan Pencahayaan: Sifat pendarfluor Gadolinium, apabila digabungkan dengan serium, boleh digunakan untuk mencipta salutan pendarfluor atau pendarfluor. Bahan ini digunakan dalam pelbagai aplikasi, termasuk pencahayaan, teknologi paparan dan tanda keselamatan. Keupayaan untuk menyesuaikan sifat pendarfluor aloi CeGd menjadikannya sangat serba boleh dalam pembangunan bahan optik baharu.
Komposisi yang ada
CeGd 90/10at% sasaran sputtering
CeGd 80/20at% sasaran sputtering
Cool tags: sasaran sputtering cerium gadolinium (cegd), pembekal sasaran sputtering cerium gadolinium (cegd) China, kilang
