Sasaran Sputtering Kuprum Aluminium (AlCu).

Hantar pertanyaan

Penerangan Produk

Sasaran sputtering Kuprum Aluminium sesuai untuk beberapa industri dan aplikasi, kerana kekerasannya yang tinggi, kekuatan tegangan dan ringan. Ia biasanya mempunyai 1-3% kandungan kuprum dan mempunyai sifat kimia yang serupa dengan Aluminium. AlCu mempunyai sifat mekanikal yang tinggi, kebolehmesinan yang sangat baik, dan kesesuaian suhu tinggi, jadi ia boleh menjadi bahan yang sesuai untuk aloi Aluminium berprestasi tinggi. Sasaran sputtering aloi AlCu ketulenan tinggi boleh digunakan dalam pelbagai bidang perindustrian daripada komponen semikonduktor dan fungsi elektronik. Dengan ketulenan tinggi 5N, saiz butiran seragam, kandungan oksigen yang lebih rendah, pengguna akhir boleh memperoleh kadar hakisan yang berterusan serta salutan filem nipis ketulenan tinggi dan homogen semasa proses PVD.

Dalam pengeluaran litar bersepadu, adalah perkara biasa bahawa fenomena penyebaran silikon ke dalam lapisan sambung aluminium. Jika kepekatan tepu silikon ditambah kepada aluminium untuk membentuk aloi silikon aluminium, masalah itu boleh diperbaiki dengan berkesan. Oleh itu, kami juga menghasilkan sasaran percikan AlSi silikon Aluminium dan sasaran percikan AlSiCu tembaga silikon Aluminium untuk aplikasi IC.

kategori	Sasaran Sputtering Aloi
Formula kimia	AlCu
Komposisi	Kuprum Aluminium
Kesucian	99.9%,99.95%,99.99%
bentuk	Plat, Sasaran Lajur, katod arka, Dibuat tersuai
Proses pengeluaran	Pencairan Vakum,PM
Saiz Tersedia	L Kurang daripada atau sama dengan 200mm,W Kurang daripada atau sama dengan 200mm