Sasaran nikel-aloi silikon (NiSi) terdiri daripada gabungan nikel (Ni) dan silikon (Si) yang biasanya terdapat dalam ketulenan 99.9 % (3N) atau lebih tinggi. Hasil daripada menggabungkan kekonduksian elektrik dan terma nikel bersama-sama ciri semikonduktor silikon, bahan ini diklasifikasikan sebagai kedua-dua "aloi-suhu tinggi" dan sebagai sumber sputtering untuk filem berfungsi. Sasaran sputtering aloi Ni-Silikon (NiSi) mempunyai fungsi penting dalam pembuatan lapisan silisid kerintangan rendah-dalam sektor semikonduktor. Neurotech, sebagai filem NiSi, menunjukkan kekonduksian yang luar biasa bersama-sama dengan kestabilan haba yang baik untuk digunakan dalam interkoneksi dan sesentuh ohmik dalam litar bersepadu. Untuk meningkatkan prestasi dan kebolehpercayaan peranti perak, aloi, bersama-sama dengan silikon, membentuk silisid nikel, yang merupakan komponen penting dalam teknologi CMOS termaju untuk{10}}perhubungan elektrik berprestasi tinggi, pantas dan cekap.
Cara Bahan Sasaran Aloi Silikon-Nikel Disediakan
1. Menyediakan Bahan Mentah. Untuk mencapai hasil yang terbaik, kami hanya menggunakan nikel tulen dan silikon tulen dan mengukur jumlah stoikiometri yang tepat mengikut fasa aloi sasaran (cth, Ni/Si 90/10 pada%, 80/20 pada%).
2. Pencairan Vakum. Bahan mentah silikon dan nikel dituangkan ke dalam mangkuk pijar (selalunya mangkuk kuprum yang disejukkan dengan air-). Pemanasan aruhan mencairkannya sepenuhnya dengan zirkonium dan membentuknya menjadi aloi cair. Ini berlaku dalam persekitaran vakum-suhu tinggi, rendah-dengan kekotoran gas seperti H, O dan N. Semasa peringkat lebur, kami menggunakan kacau elektromagnet untuk menapis zirkonium lagi untuk mencapai aloi cecair. Gabungan aloi lebur dituangkan ke dalam acuan kuprum, disejukkan dan menjadi pejal-nikel aloi silikon.
3. Rawatan Haba Penghomogenan. Jongkong diletakkan dalam rawatan haba homogen dalam vakum atau suasana pelindung (cth, gas Ar) di sekelilingnya. Dia disimpan pada suhu di bawah suhu solidus selama mungkin (cth, 1000402 selama 10 jam).
4. Pemesinan Panas (Tempa Panas/Gelek Panas): Jongkong terhomogen dipanaskan hingga melebihi suhu penghabluran semula (cth., 800-1000 darjah ) dan kemudian ditempa panas atau digulung panas.
5. Pemesinan: Bilet panas-diproses dimesin mengikut dimensi sasaran dan bentuk akhir bahan sasaran dengan ketepatan tinggi menggunakan mesin berputar dan mengisar serta kaedah pengisaran.
Aplikasi Nikel-Sasaran Sputtering Aloi Silikon
Saling Sambung Semikonduktor/Lapisan Sentuhan: Filem nipis NiSi berfungsi sebagai logam sentuhan, mengurangkan rintangan sentuhan.
Perintang Filem Nipis dan Tolok Terikan: Ciri pekali rintangan suhu rendah (TCR) menjadikannya sesuai untuk IC hibrid dan penderia tekanan MEMS.
Lapisan Pelepasan Elektron Permukaan: Digunakan sebagai bahan pemancar dalam mikroelektronik vakum dan peranti pelepasan medan;
Salutan-E dan Tenaga-Rendah: Apabila digabungkan dengan kromium dan silikon, ia boleh meningkatkan rintangan pengoksidaan dan rintangan kakisan filem kaca.
Fotovoltaik dan Paparan: Digunakan untuk gabungan sputtering filem pengalir lutsinar, elektrod atau lapisan penghalang.
