Nikel-sasaran sputtering aloi boron ialah bahan salutan sputtering yang dibuat terutamanya daripada nikel (Ni) dan boron (B) melalui-proses ketulenan tinggi. Ia biasanya digunakan dalam semikonduktor, filem nipis optik, dan sel solar. Filem nipis berfungsi nikel-boron dimendapkan pada permukaan substrat menggunakan teknik pemendapan wap fizikal (PVD) seperti magnetron sputtering.
Kaedah Penyediaan Nikel-Sasaran Sputtering Aloi Ditanggung
Penyediaan Bahan Mentah: Serbuk nikel-ketulenan tinggi dan-serbuk boron ketulenan tinggi dipilih sebagai bahan mentah.
Pembentukan: Penekanan isostatik sejuk biasanya digunakan. Serbuk diisi ke dalam acuan elastik (seperti acuan getah) dan dimeteraikan. Kemudian, ia diletakkan dalam-bekas tekanan tinggi, dan tekanan tinggi isotropik (cth, 200-400 MPa) digunakan melalui medium cecair (minyak atau air) untuk menekannya ke dalam "kosong hijau" dengan kekuatan tertentu.
Pensinteran: Dalam persekitaran vakum, suhu tinggi (biasanya di bawah takat lebur nikel, lebih kurang 1000-1200 darjah ) dan tekanan satu arah digunakan pada kosong secara serentak untuk mendapatkan pukal aloi berketumpatan tinggi.
Pemprosesan seterusnya: Menggunakan mesin pelarik, mesin pengisar, mesin pengisar, dsb., kosong tersinter diproses dengan tepat kepada dimensi akhir yang diperlukan oleh pelanggan.
Aplikasi Nikel-Sasaran Sputtering Aloi Boron
Salutan Pelindung Permukaan: Mendepositkan filem nipis nikel-boron pada permukaan bahagian yang mudah haus seperti galas, gear, acuan dan alat pemotong boleh memanjangkan hayat perkhidmatannya dengan ketara.
Industri Elektronik: Menggunakan kerintangan boleh larasnya, ia boleh digunakan untuk menghasilkan perintang filem-kepersisan tinggi,-tinggi{1}}nipis{2}}kestabilan tinggi.
Industri Optik: Oleh kerana sifatnya yang padat dan stabil, ia kadangkala digunakan sebagai salutan pelindung untuk kanta optik tertentu.
