Sasaran sputtering tulen

Sasaran Ti Sputtering tulen mempunyai kesucian yang tinggi, pengilat permukaan yang baik, kekonduksian elektrik dan terma yang baik, rintangan impak yang baik, rintangan yang baik dan rintangan kakisan, kekuatan tegangan yang tinggi, kemuluran yang baik.

Hantar pertanyaan

Berbanding dengan sasaran lain, sasaran logam berada dalam permintaan pasaran yang lebih tinggi daripada sasaran seramik, prestasi mereka lebih tinggi, dan hayat perkhidmatan lebih lama. Untuk sasaran sputtering, semakin tinggi kesucian kimia logam, lebih baik kekonduksian dan rintangan memakai filem yang dibuat daripadanya.

Penggunaan sasaran sputtering tulen

1. Bahan salutan decorative

2. Bahan implan biologi

3. Bahan Getter: Titanium mempunyai kapasiti penjerapan yang kuat untuk gas aktif, dan boleh digunakan dalam sistem pam vakum ultra tinggi dan pam ion sputter

4. Bahan Maklumat Elektronik Teknologi Tinggi: Penggunaan titanium kemelut tinggi untuk litar bersepadu dan paparan panel rata telah meningkat

Spesifikasi sasaran sputtering tulen

Gred	Gred 1, Gred 2
Teknik	Sintering, penempaan, penyepuhlindapan, rolling, pencairan vakum, pemesinan
Kesucian	99.9%-99.995%
Diameter	<350mm
Ketebalan	1-100 mm
Saiz untuk bar	Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1mm)
Saiz untuk tiub	Tiub (sasaran rotory, OD: 20mm -160 mm, ketebalan: 2-20 mm)
Ketumpatan	4.5g\/cm3
Permukaan	Digilap, cerah, pembersihan kimia, oksida hitam, dan lain -lain.
Bentuk	Cakera, pinggan, segi empat tepat, persegi, sasaran lajur,
Standard	ASTM B385, GB, JIS