Penerangan Produk
Tungsten Titanium Sputtering Targets dihasilkan oleh teknologi metalurgi serbuk yang digunakan secara meluas untuk sel solar semikonduktor dan filem nipis.
Untuk aplikasi semikonduktor, filem nipis WTi10wt% digunakan sebagai penghalang resapan dan lapisan lekatan, untuk memisahkan lapisan metalisasi daripada semikonduktor, contohnya, memisahkan aluminium daripada silikon, atau tembaga daripada silikon. Oleh itu, fungsi semikonduktor dalam mikrocip boleh dipertingkatkan dengan ketara.
Untuk sel suria filem nipis, filem nipis WTi10wt% juga digunakan sebagai lapisan penghalang untuk menghalang atom besi dalam substrat keluli meresap kepada sentuhan belakang molibdenum dan semikonduktor CIGS. Sasaran Titanium Tungsten juga digunakan untuk salutan LED dan alat.
Kilang kami boleh menghasilkan WTi 90/10wt%, WTi 85/15wt% sasaran, dan sasaran komposisi khas boleh disesuaikan, ketumpatan sasaran sebenar> 99%.
|
item |
Sasaran sputtering tungsten titanium |
|
Kesucian yang Tersedia |
99.9% min, seperti yang anda minta |
|
Bentuk yang tersedia |
Segi empat tepat, Bulat, Putar, Pelet, Jongkong, mengikut permintaan anda |
|
Saiz |
Boleh dirunding |
|
Teknologi |
Meleleh |
|
Permohonan |
Salutan vakum, Proses, Hiasan, LED, Semi, |
|
Produk Berkaitan |
WNiFe, WTa, Mo, Ta, Nb, V, Zr, Hf, Ti, Ni, Cu dll |
Proses pengeluaran: peleburan, pemuatan dan penyaduran alat.
1. Ketulenan: 99.9% min,
2. Saiz: Dimensi dihasilkan mengikut keperluan pelanggan
Permohonan: Ia digunakan terutamanya dalam salutan vakum, rawatan permukaan, salutan keras, salutan kaca bangunan, paparan panel rata, salutan tenaga suria, salutan optik dan bidang lain.
Cool tags: sasaran sputtering tungsten titanium (wti), pembekal sasaran sputtering tungsten titanium (wti) China, kilang
