Sasaran Sputtering Aluminium Titanium (AlTi).
Sasaran Sputtering Aluminium Titanium (AlTi).

Sasaran Sputtering Aluminium Titanium (AlTi).

Sasaran Sputtering aloi Aluminium Titanium (AlTi) dihasilkan oleh teknologi HIP, digunakan secara meluas untuk salutan alat dan salutan hiasan. Berbanding dengan teknologi lebur, sasaran TiAl yang dihasilkan oleh teknologi HIP mempunyai struktur dalaman mikro yang lebih seragam, saiz butiran yang lebih kecil, dan sesuai untuk pelbagai mesin sputtering magnetron dan mesin penyaduran ion.
Hantar pertanyaan
Penerangan Produk

 

Sasaran Sputtering aloi Aluminium Titanium (AlTi) dihasilkan oleh teknologi HIP, digunakan secara meluas untuk salutan alat dan salutan hiasan. Berbanding dengan teknologi lebur, sasaran TiAl yang dihasilkan oleh teknologi HIP mempunyai struktur dalaman mikro yang lebih seragam, saiz butiran yang lebih kecil, dan sesuai untuk pelbagai mesin sputtering magnetron dan mesin penyaduran ion. Pengguna akhir boleh mendapatkan kadar hakisan yang berterusan serta salutan filem nipis ketulenan tinggi dan homogen semasa proses PVD.

 

Alat yang disalut oleh filem nipis AlTi mempunyai kelajuan suapan yang lebih tinggi, prestasi pemotongan yang lebih baik, hayat perkhidmatan yang lebih lama dan kadar penyingkiran logam yang lebih tinggi boleh dicapai tanpa kesukaran.

 

Sasaran Sputtering Aluminium Titanium dan katod arka juga digunakan untuk salutan hiasan, untuk mendapatkan filem warna coklat keemasan dan hitam keperangan. Pengguna akhir boleh memperoleh kekerasan yang baik, kecerahan tinggi, warna tahan kakisan dan pengoksidaan tanpa perubahan warna untuk masa yang sangat lama. Sasaran kami telah pun layak oleh ramai pengguna akhir, termasuk pengeluar jam tangan, peralatan kebersihan, cermin kereta, dan lain-lain.

Kami mempunyai AlTi25/75at%, AlTi30/70at%, AlTi33/67at%, AlTi40/60at%, AlTi50/50at%,

 

Sasaran dan katod AlTi70/30at% untuk salutan hiasan dan alat. Fleksibiliti proses pengeluaran kami membolehkan struktur mikro bahan salutan kami dilaraskan untuk mencapai kesan yang anda inginkan. Jika butiran sasaran sputtering dijajarkan secara seragam, pengguna boleh mendapat manfaat daripada kadar hakisan berterusan dan lapisan homogen.

 

Nama

Sasaran Aloi AlTi

bahan

Aloi Titanium Aluminium

Kesucian

>5N >99.9999.8

Saiz

Disesuaikan

Warna

Perak

bentuk

Disesuaikan

Permukaan

Permukaan Digilap;Ra Kurang daripada atau sama dengan 1.6μm

Ketumpatan

≈2.72g/cm³(berdasarkan perkadaran Titanium kepada Aluminium)

Permohonan

Digunakan untuk Litar Bersepadu, Salutan Filem PVD, Salutan vakum, dan lain-lain.

 

Komposisi yang ada

 

AlTi25/75at% sasaran sputtering

AlTi30/70at% sasaran sputtering

AlTi33/67at% sasaran sputtering

AlTi40/60at% sasaran sputtering

AlTi50/50at% sasaran sputtering

AlTi70/30at% sasaran sputtering

 

Cool tags: aluminium titanium (alti) sasaran sputtering, China aluminium titanium (alti) sputtering sasaran pembekal, kilang