Penerangan Produk
Sasaran sputtering Tantalum digunakan terutamanya dalam industri semikonduktor dan industri salutan optik. Kami mengeluarkan pelbagai spesifikasi sasaran tantalum sputtering atas permintaan pelanggan daripada industri semikonduktor dan industri optik melalui kaedah peleburan relau EB vakum. Kami menghasilkan dimensi berbeza sasaran tantalum sputtering seperti sasaran cakera, sasaran segi empat tepat dan sasaran berputar.
Spesifikasi
Kami menghasilkan sasaran R05200, R05400 yang memenuhi piawaian ASTM B708 dan kami boleh membuat sasaran mengikut lukisan yang anda sediakan. Dengan memanfaatkan jongkong tantalum berkualiti tinggi kami, peralatan canggih, teknologi inovatif, pasukan profesional, kami menyesuaikan sasaran sputtering yang anda perlukan.
Ciri-ciri
Batang Tanatlum, Ketulenan 99.95% 99.95%, ASTM B365-98
Gred: RO5200, RO5400
Piawaian Pengilangan: ASTM B365-98
Spesifikasi
Kekotoran logam, ppm maks mengikut berat, Imbangan - Tantalum
|
unsur |
Fe |
Mo |
Nota |
Ni |
Si |
Ti |
W |
|
kandungan |
100 |
200 |
1000 |
100 |
50 |
100 |
50 |
Sifat mekanikal
|
Diameter (mm) |
Φ3.18-63.5 |
|
Kekuatan Tegangan Muktamad (MPa) |
172 |
|
Kekuatan hasil (MPa) |
103 |
|
Pemanjangan(%, 1-dalam ukuran panjang) |
25 |
Cool tags: cakera sasaran tantalum sputtering, pembekal cakera sasaran tantalum sputtering China, kilang
